Tetramethylammoniumhydroxid (TMAH) CAS 75-59-2 (25 % wässrige Lösung)
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| Chemischer Name | Tetramethylammoniumhydroxid (25 %ige wässrige Lösung) |
| Synonyme | TMAH (25 % wässrige Lösung); N,N,N-Trimethylmethanaminiumhydroxid |
| CAS-Nummer | 75-59-2 |
| Lagerstatus | Auf Lager, Produktionsmaßstab bis zu Tonnen |
| Molekulare Formel | (CH3)4NOH |
| Molekulargewicht | 91,15 |
| Boling Point | 110℃ |
| Flammpunkt | 6℃ |
| Dichte | 1,016 (25 % wässrig) |
| Brechungsindex (N20/D) | 1,378~1,384 |
| Wasserlöslichkeit | Löslich in Wasser |
| Geruch | Starker Ammoniak-ähnlicher Geruch |
| Stabilität | Stabil. Entflammbar. Unverträglich mit starken Oxidationsmitteln und starken Säuren |
| Gefahrenwarnung | Hochgiftig! Brennbare Flüssigkeit! |
| Marke | Ruifu Chemical |
| Artikel | Spezifikationen |
| Aussehen | Farblose Flüssigkeit |
| Test | 24,5–25,5 % (Bestimmung durch Titration) |
| Chlorid | <500 ppm |
| Kalium (K) | <5ppm |
| Natrium (Na) | <5ppm |
| Farbe | <50APHA |
| Brechungsindex n20/D | 1,378~1,384 |
| Infrarotspektrum | Entspricht der Struktur |
| Teststandard | Unternehmensstandard |
Paket: 25 kg/Fass, oder nach Kundenwunsch.
Lagerbedingungen:In verschlossenen Behältern kühl und trocken lagern; Vor Licht und Feuchtigkeit schützen.
Gefahrensymbole T - Giftig
C - Ätzend
Risikocodes
R20/21/22 - Gesundheitsschädlich beim Einatmen, bei Berührung mit der Haut und beim Verschlucken.
R34 - Verursacht Verbrennungen
Sicherheitsbeschreibung
S26 - Bei Augenkontakt sofort mit viel Wasser ausspülen und ärztlichen Rat einholen.
S36/37/39 - Tragen Sie geeignete Schutzkleidung, Handschuhe und Augen-/Gesichtsschutz.
S45 - Bei Unfall oder Unwohlsein sofort ärztlichen Rat einholen (wenn möglich dieses Etikett vorzeigen).
UN-IDs UN 1835
WGK Deutschland 1
RTECS PA0875000
FLUKA-MARKEN-F-CODES 4.4-10-34
TSCA Ja
HS-Code 2923900090
Gefahrenklasse 3
Verpackungsgruppe II
Tetramethylammoniumhydroxid (TMAH) (CAS: 75-59-2) ist ein quartäres Ammoniumsalz, das im Allgemeinen aufgrund seiner hohen Siliziumätzrate als anisotropes Ätzmittel für Silizium, als basisches Lösungsmittel bei der Entwicklung von saurem Fotolack in Fotolithografieprozessen, als Tensid bei der Synthese von Ferrofluid und als polarographisches Reagenz verwendet wird. Es findet Anwendung bei der Herstellung von organischem Silizium, wo es als Aufheller und Reinigungsmittel für Computer-Siliziumwaferoberflächen verwendet wird. Es ist auch an der Reinigung einiger metallischer Elemente beteiligt.
